光刻机是一种用于制造微电子器件的重要设备。它将光通过透镜、掩模和光敏材料的相互作用转化为微细结构图案，然后将这些图案转移到硅片或其他半导体材料上，以便制造集成电路、平板显示器和其他微纳米器件。
光刻机使用紫外光或可见光，在掩模上形成所需的结构，然后通过将光照射在光敏材料上，使光敏材料发生化学或物理变化，形成微细的图案。这些图案可以包括电路的线路、接触孔、晶体管的栅极等微细结构。
通过重复光刻步骤和其他加工步骤，可以逐渐构建出复杂的电子器件。光刻机具有高分辨率、高精度和高效率等特点，广泛应用于半导体制造、集成电路生产、光子器件制造等领域。
